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6541B-214-PM-111DA MAC電磁閥☆>AAA<歡迎您--上海相澤機(jī)械設(shè)備有限公司磁線圈外殼密封 MAC提供兩種類型外殼,每一種有多種用途:傳統(tǒng)的RED HAT 金屬結(jié)構(gòu)和一個(gè)被稱作RED HAT11的電磁線圈的整體模壓環(huán)氧樹脂結(jié)構(gòu)。全部都滿足ICS-6,ANSI/NEMA標(biāo)準(zhǔn)UL標(biāo)準(zhǔn)429。508和1002.這些標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定外殼防護(hù)級(jí)別,并通過(guò)實(shí)驗(yàn),使每一個(gè)類型都有獲得認(rèn)
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--上海相澤機(jī)械設(shè)備有限公司磁線圈外殼密封
MAC提供兩種類型外殼,每一種有多種用途:傳統(tǒng)的RED HAT 金屬結(jié)構(gòu)和一個(gè)被稱作RED HAT11的電磁線圈的整體模壓環(huán)氧樹脂結(jié)構(gòu)。全部都滿足ICS-6,ANSI/NEMA標(biāo)準(zhǔn)UL標(biāo)準(zhǔn)429。508和1002.這些標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定外殼防護(hù)級(jí)別,并通過(guò)實(shí)驗(yàn),使每一個(gè)類型都有獲得認(rèn)證。
電磁線圈結(jié)構(gòu)
接觸液體的內(nèi)部零件是由非磁性的300系列和磁性的400系列不銹鋼構(gòu)成的。在交流結(jié)構(gòu)中,屏蔽線圈是紫鋼,而不銹鋼閥體作用銀。當(dāng)需要時(shí),可以使用其它材料。在直流結(jié)構(gòu)中,不需屏蔽線圈。磁心管是由300系列不銹鋼經(jīng)深度拉伸形成的,使需用不需銀焊或形成焊點(diǎn)。
zui大操作壓力
zui大操作壓力是指電磁線圈能夠安全地操作閥門時(shí)可承受閥門入口與出口間的zui大壓力差。若閥門出口壓力是未知的,把供給壓力當(dāng)作zui大壓差是zui安全的。
zui小操作壓力差
zui小操作壓差是指開啟閥門或保持閥門開啟所需的zui小壓差。對(duì)于兩通浮動(dòng)活塞或浮動(dòng)膜片閥來(lái)說(shuō),當(dāng)?shù)陀趜ui小操作壓差時(shí),閥門將開始關(guān)閉,對(duì)于三,四通先導(dǎo)閥來(lái)說(shuō),zui小操作壓力差是在壓力和排氣口之間測(cè)量差,須在一個(gè)操作周期被保持以確保由一個(gè)位置轉(zhuǎn)到另一個(gè)位置。
注意:直動(dòng)式,懸掛膜片或懸掛活塞閥不需要zui小壓差。
安全操作壓力
安全工作壓力是指閥門可以承受的無(wú)損害的管路或系統(tǒng)壓力。試驗(yàn)壓力是安全工作壓力的5倍。
環(huán)境溫度限制
zui低環(huán)境溫度除特別系列注明外,標(biāo)準(zhǔn)目錄閥的正常限制是0度。
動(dòng)作時(shí)間
從閥門全閉到全開,或反之的動(dòng)作時(shí)間取決于閥門的尺寸和操作形式,電力供給。流體溫度,入口壓力和壓降等,在平均條件下空氣操作交流閥協(xié)作時(shí)間如下:
A 小直動(dòng)閥—5至10毫秒
B 大直動(dòng)閥—20至40毫秒
C 內(nèi)部先導(dǎo)式操作閥
1、小膜片型—15至50毫秒 2、大膜片型—50至75毫秒 3、小活塞型—75至100毫秒 4、大活塞型—100至150毫秒得認(rèn)證。
電磁線圈結(jié)構(gòu)
接觸液體的內(nèi)部零件是由非磁性的300系列和磁性的400系列不銹鋼構(gòu)成的。在交流結(jié)構(gòu)中,屏蔽線圈是紫鋼,而不銹鋼閥體作用銀。當(dāng)需要時(shí),可以使用其它材料。在直流結(jié)構(gòu)中,不需屏蔽線圈。磁心管是由300系列不銹鋼經(jīng)深度拉伸形成的,使需用不需銀焊或形成焊點(diǎn)。
zui大操作壓力
zui大操作壓力是指電磁線圈能夠安全地操作閥門時(shí)可承受閥門入口與出口間的zui大壓力差。若閥門出口壓力是未知的,把供給壓力當(dāng)作zui大壓差是zui安全的。
zui小操作壓力差
zui小操作壓差是指開啟閥門或保持閥門開啟所需的zui小壓差。對(duì)于兩通浮動(dòng)活塞或浮動(dòng)膜片閥來(lái)說(shuō),當(dāng)?shù)陀趜ui小操作壓差時(shí),閥門將開始關(guān)閉,對(duì)于三,四通先導(dǎo)閥來(lái)說(shuō),zui小操作壓力差是在壓力和排氣口之間測(cè)量差,須在一個(gè)操作周期被保持以確保由一個(gè)位置轉(zhuǎn)到另一個(gè)位置。
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